РФЭС исследование наноразмерных пленок TiNxOy, полученных методом ионно-лучевого распыления

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorСтервоедов, А.Н.
dc.contributor.authorБереснев, В.М.
dc.date.accessioned2011-10-07T10:30:19Z
dc.date.available2011-10-07T10:30:19Z
dc.date.issued2010
dc.description.abstractВ работе представлены результаты исследования с использованием метода рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии наноразмерных пленок TiNxOy толщиной  5 нм, полученных на кремнии методом слаботочного ионно-лучевого распыления. Показана возможность использования РФЭС с угловым разрешением для определения толщины и сплошности полученных ультратонких пленок. Детально показано влияние температуры подложки во время ионно-лучевого синтеза и температурного отжига на химическое состояние и диффузионные свойства структур Ti-O-N/Si. The results of studies using X-ray photoelectron spectroscopy of nanoscaled films TiNxOy thickness of about 5 nm, obtained on silicon by low-current ion beam sputtering are presented in given work. Also it is shown the possibility of using angle-resolved XPS to determine the thickness and continuity of the obtained ultra-thin films. The effect of substrate temperature during ion beam synthesis and thermal annealing on the chemical state and the diffusion properties of the structures Ti-O-N/Si is shown in details.У роботі представлені результати дослідження з використанням методу рентгенівської фотоелектронної спектроскопії нанорозмірних плівок TiNxOy товщиною  5 нм, отриманих на кремнії методом слаботочного іонно-променевого розпилення. Показано можливість використання РФЕС з кутовим дозволом для визначення товщини і суцільності отриманих ультра тонких плівок. Детально показано вплив температури підкладки під час іонно-променевого синтезу та температурного відпалу на хімічний стан і дифузійні властивості структур Ti-O-N/Si.en
dc.identifier.citationСтервоедов А.Н. РФЭС исследование наноразмерных пленок TiNxOy, полученных методом ионно-лучевого распыления / А.Н. Стервоедов, В.М. Береснев // Вiсник Харкiвського нацiонального унiверситету iм. В.Н. Каразiна. – 2010. – № 887. Сер.: Фізична. «Ядра, частинки, поля». – Вип. 1(45). – С. 104 – 109en
dc.identifier.urihttps://ekhnuir.karazin.ua/handle/123456789/4717
dc.language.isoruen
dc.publisherХарьковский национальный университет имени В.Н. Каразинаen
dc.subjectнаноразмерные пленкиen
dc.subjectоксинитрид титанаen
dc.subjectионное распылениеen
dc.subjectрентгеновская фотоэлектронная спектроскопияen
dc.subjectРФЭСen
dc.subjectnanoscaled filmsen
dc.subjecttitanium oxinitrideen
dc.subjection beam sputteringen
dc.subjectX-ray photoelectron spectroscopyen
dc.subjectXPSen
dc.titleРФЭС исследование наноразмерных пленок TiNxOy, полученных методом ионно-лучевого распыленияen
dc.typeArticleen

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
887_1(45)_10_p104-109.pdf
Розмір:
2.97 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
7.9 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Наукові роботи. Навчально-науковий інститут "Фізико-технічний факультет"