Спектроскопическое исследование влияния деформации кожи на содержание шиффовых оснований в синтезирующемся коллагене типа I

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorКостина, Т.В.
dc.contributor.authorКот, Ю.Г.
dc.contributor.authorГоэнага, М.В.
dc.contributor.authorНикитина, Н.А.
dc.contributor.authorПерский, Е.Э.
dc.date.accessioned2012-12-05T21:04:38Z
dc.date.available2012-12-05T21:04:38Z
dc.date.issued2009
dc.description.abstractПерский In vіtro с помощью флуориметрии и ИК-спектрофотометрии исследовано влияние деформации соединительнотканных клеток кожи 3-месячных крыс при её механическом растяжении в диапазоне напряжений (0,075 – 0,18) МН/м2 на содержание шиффовых оснований в коллагене типа І, который синтезируется в этих условиях. Для выявления всех шиффовых оснований, которые могут возникнуть в коллагеновых надмолекулярных структурах, при наработке коллагена в инкубационную среду добавляли семикарбазид, аминогруппы которого путём конденсации с альдегидными группами аллизила и гидроксиаллизила образуют шиффовы основания уже в свежесинтезированном коллагене, не содержащим агрегаты молекул. Измерения спектров флуоресценции синтезированного коллагена типа І показало, что интенсивность полосы эмиссии с длиной волны 430 нм, характерной для шиффовых оснований, уменьшается при повышении напряжения в коже. В ИК-спектрах коллагена типа І проанализирована интенсивность полосы поглощения 1640 см-1, представляющая собой характеристическую частоту колебания шиффовых оснований в тройной спирали молекулы коллагена. Обнаружено, что интенсивность этой полосы поглощения в коллагене снижается с ростом напряжения, при котором он синтезируется в коже. Содержание шиффовых оснований в коллагеновых структурах обратнопропорционально величине механического напряжения в ткани и при его увеличении от 0 до 0,15 МН/м2 уменьшение их количества составляет 39,2% и 33,0% по данным флуориметрии и ИК-спектрофотометрии соответственно.en
dc.identifier.citationЖурналen
dc.identifier.urihttps://ekhnuir.karazin.ua/handle/123456789/7302
dc.language.isoruen
dc.publisherХарьковский Национальный Университет им. В.Н. Каразинаen
dc.relation.ispartofseriesБиофизический вестник;23(2)
dc.subjectколлаген типа Іen
dc.subjectсинтезen
dc.subjectшиффовы основанияen
dc.subjectфлуориметрияen
dc.subjectИК- спектроскопияen
dc.titleСпектроскопическое исследование влияния деформации кожи на содержание шиффовых оснований в синтезирующемся коллагене типа Ien
dc.typeArticleen

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
46_51_Kostina.pdf
Розмір:
218.22 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
7.9 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Наукові роботи. Факультет радіофізики, біомедичної електроніки та комп’ютерних систем