Архив электронных ресурсов
[Зарегистрироваться]
 

eKhNUIR >
Фізико-технічний факультет >
Наукові роботи. Фізико-технічний факультет >

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.univer.kharkov.ua/handle/123456789/5692

Название: Проходження електромагнітної хвилі крізь двошарову плазмову структуру за неоднорідності одного з шарів плазми
Другие названия: Transmission of the electromagnetic wave through the two-layer plasma structure when one of the plasma layers is not uniform
Авторы: Денисенко, І.Б.
Івко, С.В.
Азарєнков, М.О.
Смоляков, А.І.
Denysenko, I.B.
Ivko, S.V.
Azarenkov, N.A.
Smolyakov, A.I.
Ключевые слова: електромагнітні хвилі
діелектрична проникність
повна прозорість
шаруваті структури
неоднорідна плазма
electromagnetic waves
dielectric permittivity
full transparency
layered structures
non-uniform plasma
электромагнитные волны
диэлектрическая проницаемость
полная прозрачность
слоистые структуры
неоднородная плазма
Дата публикации: 2011
Издатель: Харкiвський нацiональний унiверситет iм. В.Н. Каразiна. V.N. Karazin Kharkiv National University
Библиографическое описание: Проходження електромагнітної хвилі крізь двошарову плазмову структуру за неоднорідності одного з шарів плазми / І.Б. Денисенко, С.В. Івко, М.О. Азарєнков, А.І. Смоляков // Вiсник Харкiвського нацiонального унiверситету iм. В.Н. Каразiна. – 2011. – № 979. Сер.: Фізична. «Ядра, частинки, поля». – Вип. 4(52). – С. 92 – 97
Реферат: Вивчається проходження р-поляризованої електромагнітної хвилі крізь двошарову плазмову структуру у випадку, коли один з шарів плазми є неоднорідним. Розглядається система з двох шарів, коефіцієнти діелектричної проникності яких мають різні знаки. Досліджується вплив неоднорідності плазми на коефіцієнт відбиття хвилі від шаруватої структури. Встановлено умови, за яких коефіцієнт відбиття хвилі від двошарової структури обертається на нуль. Показано, як неоднорідність впливає на прозорість структури. Встановлено, що неоднорідність плазми в шарі з додатною діелектричною проникністю дозволяє зменшити товщину цього шару, яка необхідна для повної прозорості структури, у порівнянні з випадком однорідної плазми. Transmission of the p-polarized electromagnetic wave through the two-layer plasma structure is studied in a case when one of the plasma layers is not uniform. The system composed of two layers with dielectric permittivities of the opposite sign is considered. The influence of the non-uniformity on the reflection coefficient of the layered structure is studied. The conditions, when the reflection coefficient equals zero, are found. It is shown that non-uniformity affects the transparency of the structure. It is determined that non-uniformity of plasma in the layer with positive dielectric permittivity allows to decrease the thickness of the layer, which is required for full transparency, in comparison with the case of uniform plasma. Изучается прохождение р-поляризованной электромагнитной волны через двухслойную плазменную структуру в случае, когда один из слоев неоднороден. Рассматривается система из двух слоев, коэффициенты диэлектрической проницаемости которых имеют противоположные знаки. Исследуется влияние неоднородности плазмы на коэффициент отражения волны от слоистой структуры. Найдены условия, при которых коэффициент отражения от двухслойной структуры обращается в ноль. Показано, что неоднородность влияет на прозрачность структуры. Установлено, что неоднородность плазмы в слое с положительной диэлектрической проницаемостью позволяет уменьшить толщину этого слоя, которая необходима для полной прозрачности структуры, в сравнении со случаем однородной плазмы.
URI: http://dspace.univer.kharkov.ua/handle/123456789/5692
Располагается в коллекциях:Наукові роботи. Фізико-технічний факультет

Файлы этого ресурса:

Файл Описание РазмерФормат
979_4(52)_11_p92-97.pdf370,06 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть
Просмотр статистики

Все ресурсы в архиве защищены авторским правом, все права сохранены.

 

Valid XHTML 1.0! Яндекс цитирования DSpace Software Copyright   ©   2002-2008   MIT   and   Hewlett-Packard - Обратная связь