Экспериментальное изучение радиальной структуры ВЧ разряда

Вантажиться...
Ескіз

Дата

2008

Назва журналу

Номер ISSN

Назва тому

Видавець

Харкiвський нацiональний унiверситет iм. В.Н. Каразiна

Анотація

В работе исследовано распределение интенсивности свечения разрядной плазмы по радиусу трубки и измерены ленгмюровским зондом радиальные профили температуры электронов и плотности плазмы в ВЧ разряде. Экспериментально обнаружено резкое увеличение температуры электронов и интенсивности свечения вблизи стенки трубки в слаботочной моде ВЧ разряда, при этом радиальное распределение плотности плазмы максимально вблизи границы радиального слоя. В моде ВЧ разряда понижение температуры электронов во всем плазменном объеме приводит к ослаблению амбиполярного электрического поля и исчезновению пика интенсивности свечения вблизи стенки трубки. This paper studies the distribution of the glow intensity of the discharge plasma against the tube radius and reports the radial profiles of electron temperature and plasma concentration in the RF discharge registered with a Langmuir probe. An abrupt increase of electron temperature and glow intensity near the tube wall in the weak-current mode of the RF discharge is revealed, the radial distribution of plasma concentration possessing a maximum near the radial sheath boundary. In the mode of the RF discharge the electron temperature decrease in the total plasma volume leads to an ambipolar electric field weakening and the peak of the glow intensity near the tube wall vanishes.

Опис

Ключові слова

radio-frequency capacitively coupled discharges, radial structure, mode of the RF discharge, low pressure, nitrogen, высокочастотный емкостный разряд, радиальная структура, режим ВЧ разряда, низкое давление, азот

Бібліографічний опис

Лисовский В.А. Экспериментальное изучение радиальной структуры ВЧ разряда / В.А. Лисовский, Н.Д. Харченко, В.Д. Егоренков // Вiсник Харкiвського нацiонального унiверситету iм. В.Н. Каразiна. – 2008. – № 823. Сер.: Фізична. «Ядра, частинки, поля». – Вип. 3(39). – С. 103 - 109