Импеданс асимметричного конденсатора, заполненного плазмой ВЧ индукционного разряда
Вантажиться...
Дата
2010
Автори
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Харкiвський нацiональний унiверситет iм. В.Н. Каразiна
Анотація
В данной работе построена простая аналитическая модель ВЧ импеданса асимметричного плазменного конденсатора, образованного двумя электродами разной площади и заполненного плазмой ВЧ индукционного разряда низкого давления. Также представлены результаты экспериментальных измерений импеданса асимметричного плазменного конденсатора в системе с диаметром газоразрядной камеры 250 мм. Сравнение экспериментальных данных с результатами моделирования подтверждает применимость модели не только для оценок, но и для практически точного расчета ВЧ импеданса асимметричного плазменного конденсатора, заполненного плазмой ВЧ индукционного разряда. Предложенная модель может быть использована для расчета ВЧ цепей при конструировании плазменных технологических устройств с комбинированным ВЧ индукционно-емкостным разрядом. У даній роботі побудована проста аналітична модель ВЧ імпедансу асиметричного плазмового конденсатора, утвореного двома електродами різної площі і заповненого плазмою ВЧ індукційного розряду низького тиску. Також представлені результати експериментальних вимірювань імпедансу асиметричного плазмового конденсатора в системі з діаметром газорозрядної камери 250 мм. Порівняння експериментальних даних з результатами моделювання підтверджує можливість застосування моделі не тільки для оцінок, але і для практично точного розрахунку ВЧ імпедансу асиметричного плазмового конденсатора, заповненого плазмою ВЧ індукційного розряду. Запропонована модель може бути використана для розрахунку ВЧ ланцюгів при конструюванні плазмових технологічних пристроїв з комбінованим ВЧ індукційно-ємнісним розрядом.
In this paper simple analytic model of RF impedance of asymmetric capacitor filled by low-pressure RF inductively coupled plasma is developed. Results of experimental measurements of the asymmetric capacitor impedance in the system with 250 mm diameter gas-discharge chamber are present. Comparison of the experimental data with the results of theoretical modeling shows possibility of not only estimations but for exact prediction of the plasma capacitor impedance using the developed model. The proposed model of the plasma capacitor impedance may be useful for RF circuit’s design of plasma technological systems with combined RF inductive-capacitive discharge.
Опис
Ключові слова
ВЧ индукционный разряд, ВЧ импеданс плазмы, плазменный конденсатор, RF ICP, RF plasma impedance, plasma capacitor
Бібліографічний опис
Рафальский Д.В. Импеданс асимметричного конденсатора, заполненного плазмой ВЧ индукционного разряда / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин // Вiсник Харкiвського нацiонального унiверситету iм. В.Н. Каразiна. – 2010. – № 899. Сер.: Фізична. «Ядра, частинки, поля». – Вип. 2(46). – С. 67 - 73