Архив электронных ресурсов
[Зарегистрироваться]
 

eKhNUIR >
Фізико-технічний факультет >
Наукові роботи. Фізико-технічний факультет >

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.univer.kharkov.ua/handle/123456789/4730

Название: Импеданс асимметричного конденсатора, заполненного плазмой ВЧ индукционного разряда
Авторы: Рафальский, Д.В.
Дудин, С.В.
Ключевые слова: ВЧ индукционный разряд
ВЧ импеданс плазмы
плазменный конденсатор
RF ICP
RF plasma impedance
plasma capacitor
Дата публикации: 2010
Издатель: Харкiвський нацiональний унiверситет iм. В.Н. Каразiна
Библиографическое описание: Рафальский Д.В. Импеданс асимметричного конденсатора, заполненного плазмой ВЧ индукционного разряда / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин // Вiсник Харкiвського нацiонального унiверситету iм. В.Н. Каразiна. – 2010. – № 899. Сер.: Фізична. «Ядра, частинки, поля». – Вип. 2(46). – С. 67 - 73
Реферат: В данной работе построена простая аналитическая модель ВЧ импеданса асимметричного плазменного конденсатора, образованного двумя электродами разной площади и заполненного плазмой ВЧ индукционного разряда низкого давления. Также представлены результаты экспериментальных измерений импеданса асимметричного плазменного конденсатора в системе с диаметром газоразрядной камеры 250 мм. Сравнение экспериментальных данных с результатами моделирования подтверждает применимость модели не только для оценок, но и для практически точного расчета ВЧ импеданса асимметричного плазменного конденсатора, заполненного плазмой ВЧ индукционного разряда. Предложенная модель может быть использована для расчета ВЧ цепей при конструировании плазменных технологических устройств с комбинированным ВЧ индукционно-емкостным разрядом. У даній роботі побудована проста аналітична модель ВЧ імпедансу асиметричного плазмового конденсатора, утвореного двома електродами різної площі і заповненого плазмою ВЧ індукційного розряду низького тиску. Також представлені результати експериментальних вимірювань імпедансу асиметричного плазмового конденсатора в системі з діаметром газорозрядної камери 250 мм. Порівняння експериментальних даних з результатами моделювання підтверджує можливість застосування моделі не тільки для оцінок, але і для практично точного розрахунку ВЧ імпедансу асиметричного плазмового конденсатора, заповненого плазмою ВЧ індукційного розряду. Запропонована модель може бути використана для розрахунку ВЧ ланцюгів при конструюванні плазмових технологічних пристроїв з комбінованим ВЧ індукційно-ємнісним розрядом. In this paper simple analytic model of RF impedance of asymmetric capacitor filled by low-pressure RF inductively coupled plasma is developed. Results of experimental measurements of the asymmetric capacitor impedance in the system with 250 mm diameter gas-discharge chamber are present. Comparison of the experimental data with the results of theoretical modeling shows possibility of not only estimations but for exact prediction of the plasma capacitor impedance using the developed model. The proposed model of the plasma capacitor impedance may be useful for RF circuit’s design of plasma technological systems with combined RF inductive-capacitive discharge.
URI: http://dspace.univer.kharkov.ua/handle/123456789/4730
Располагается в коллекциях:Наукові роботи. Фізико-технічний факультет

Файлы этого ресурса:

Файл Описание РазмерФормат
899_2(46)_10_p67-73.pdf336,65 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть
Просмотр статистики

Все ресурсы в архиве защищены авторским правом, все права сохранены.

 

Valid XHTML 1.0! Яндекс цитирования DSpace Software Copyright   ©   2002-2008   MIT   and   Hewlett-Packard - Обратная связь