Архив электронных ресурсов
[Зарегистрироваться]
 

eKhNUIR >
Фізико-технічний факультет >
Навчальні видання. Фізико-технічний факультет >

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.univer.kharkov.ua/handle/123456789/1865

Название: Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем: Методическое пособие для лабораторных работ по предмету “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем”
Авторы: Лисовский, В.А.
Ключевые слова: физика плазмы
газовый разряд
Дата публикации: 2009
Издатель: ХНУ имени В.Н. Каразина
Библиографическое описание: Лисовский В.А. Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем: Методическое пособие для лабораторных работ по предмету “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем”. – Х.: ХНУ имени В.Н. Каразина, 2009. - 24 с.
Серия/Номер: ;ББК 22.333я73
Реферат: Эти методические указания для лабораторных работ подготовлены для студентов физико-технического факультета, которые изучают курс “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем” на кафедре физических технологий физико-технического факультета. Лабораторные работы охватывают различные свойства высокочастотного газового разряда низкого давления (зажигание разряда в высокочастотном и комбинированном электрических полях, различные режимы горения высокочастотного разряда и т.д.).
URI: http://dspace.univer.kharkov.ua/handle/123456789/1865
Располагается в коллекциях:Навчальні видання. Фізико-технічний факультет

Файлы этого ресурса:

Файл Описание РазмерФормат
МЕТОДИЧКА_RF_Лабораторные работы.pdf615,29 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть
Просмотр статистики

Все ресурсы в архиве защищены авторским правом, все права сохранены.

 

Valid XHTML 1.0! Яндекс цитирования DSpace Software Copyright   ©   2002-2008   MIT   and   Hewlett-Packard - Обратная связь