Архив электронных ресурсов
[Зарегистрироваться]
 

eKhNUIR >
Фізико-технічний факультет >
Наукові роботи. Фізико-технічний факультет >

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.univer.kharkov.ua/handle/123456789/1697

Название: Modes of low-pressure dual-frequency (27/2 MHz) discharges in hydrogen
Авторы: Lisovskiy, Valeriy
Booth, Jean-Paul
Landry, Karine
Douai, David
Cassagne, Valerick
Yegorenkov, Vladimir
Ключевые слова: plasma physics
gas discharge
Дата публикации: Мар-2008
Издатель: PLASMA SOURCES SCIENCE AND TECHNOLOGY
Библиографическое описание: Plasma Sources Sci. Technol. 17 (2008) 025002 (6pp)
Серия/Номер: ;doi:10.1088/0963-0252/17/2/025002
Реферат: This paper studies the modes of dual-frequency (high-frequency (HF)/low-frequency (LF)) low-pressure discharges. The dual-frequency discharges are shown to burn in one of three possible modes. At small LF voltages the first mode is observed, i.e. the HF discharge perturbed by the LF voltage. The second mode, i.e. the combined discharge, exists in the presence of intense ionization in the sheaths, when the LF voltage exceeds some critical value. The third mode (the LF discharge perturbed by an HF field) is observed when a small HF voltage is applied to the burning LF discharge. The range of parameters within which the first mode of the combined discharge may be extinguished by the LF voltage increase is shown to be limited by the HF discharge extinction curve from the low-pressure side as well as the lowest HF voltage for the transition of the discharge from the first mode to the second one.
URI: http://dspace.univer.kharkov.ua/handle/123456789/1697
Располагается в коллекциях:Наукові роботи. Фізико-технічний факультет

Файлы этого ресурса:

Файл Описание РазмерФормат
PSST_2008_RF_2F.pdf368,86 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть
Просмотр статистики

Все ресурсы в архиве защищены авторским правом, все права сохранены.

 

Valid XHTML 1.0! Яндекс цитирования DSpace Software Copyright   ©   2002-2008   MIT   and   Hewlett-Packard - Обратная связь